XPS/ESCA(X-射線光電子光譜/化學分析電子光譜)

X-射線電光子分光光譜/電子能譜術化學分析XPS(X-射線光電子光譜),也被稱為ESCA(化學分析電子光譜)主要是被用來確定定量的原子組成和化學,是一種使用取樣容積從表面延伸到約50–70Å深度的表面分析技術。另外,通過量化基質元素的深度函數,XPS分析可以用濺射深度來表示薄膜的特性。XPS是唯一一種提供偵測元素化學狀態訊息的元素分析技術,例如硫酸鹽和硫化物之間元素硫形式的區別。工作原理是用單色X-射線照射樣品,造成光電子的發射,得到元素的特性能量。

EAG會在各種不同的應用中利用這種技術幫助各個行業內的客戶,包括研發、製程開發/改善。

案例包括:

  • 鑑別污漬和變色
  • 特性化清潔過程
  • 分析粉末和碎屑的成分
  • 確定污染物來源
  • 研究製程前後的聚合物官能性,來辨別和定量樣品表面的變化
  • 測定硬碟上潤滑油的厚度
  • X-射線電光子分光光譜/電子能譜術化學分析得到基質組成中薄膜堆疊的深度分析(包括導體和非導體)
  • 評估樣品之間氧化層厚度的差異

這些針對產品化學成分的見解可以讓您更為快速地製造產品和改善流程,使得您減少處理時間,並節省成本。

有了EAG的幫助,您還可以利用最好的設施、儀器和科學家來得到XPS的分析結果。我們為多個行業處理過許多不同的材料,這讓我們積累了各種豐富的經驗。此外,我們的個人服務會確保解決您的所有問題。

 

  • 有機和無機材料、污漬或殘留物的表面分析
  • 確定表面組成和化學狀態的資訊
  • 薄膜組成的深度分析
  • 矽氧氮化物(Silicon oxynitride)的厚度和劑量測定
  • 薄膜氧化物厚度測定(SiO2, Al2O3等等)

偵測訊號:近表面原子的光電子

偵測元素:Li-U化學鍵結資訊

偵測限制條件:0.01 - 1 at% ~monolayer

深度解析度: 20-200 Å(深度分析);10-100 Å(表面分析)

影像/mapping:

橫向解析度/偵測尺寸:10 µm - 2 mm

  • 表面的化學狀態鑑定
  • 鑑定所有元素,H和He除外
  • 定量分析,包括樣品之間化學狀態的差異
  • 適用於各種材料,包括絕緣樣品(紙張、塑膠和玻璃)
  • 基材濃度深度分析
  • 氧化物厚度的測量
  • 探測限制一般為~ 0.1 at%
  • 最小的分析面積~10 µm
  • 有限的特定有機資訊
  • 超高真空環境下的樣品相容性
  • 航太工業
  • 汽車
  • 生物醫學/生物技術
  • 化合物半導體
  • 資料存儲
  • 國防
  • 顯示器
  • 電子領域
  • 工業產品
  • 照明設備
  • 製藥
  • 光子領域
  • 聚合物
  • 半導體
  • 光電太陽能
  • 電信