SEM(掃描式電子顯微鏡)

掃描電子顯微鏡分析法SEM(掃描式電子顯微鏡)為樣品表面和近表面提供高解析度和長景深的圖像。由於能夠快速提供非常詳細的圖像,SEM目前是最廣泛使用的分析工具之一。與EDS(能量色散X-射線光譜)的結合測量,讓SEM可以提供幾乎整個週期表的元素鑑定。

當光學顯微鏡不能提供足夠的圖像解析度或是放大倍率時,EAG就會使用SEM來解決這個問題。SEM的應用範圍包括故障分析、維度分析、製程掃描電子顯微鏡分析法特性、逆向工程和粒子鑑定。EAG的專業知識和豐富經驗,對於我們所服務的行業和客戶來說是非常寶貴的。一對一的個人服務,可以確保客戶對分析結果及其意義有良好的理解。在分析過程中,客戶會經常在場,進而實現資料、圖像和資訊的即時分享。

請點擊此處瞭解EAG EMview有關SEM、FIB、TEM以及STEM的處理和顯示。

 

 

  • 高解析度圖像
  • 元素微量分析和顆粒特性

偵測訊號:二次電子、背向散射電子和X-射線,吸收電流、光(陰極發光)和感應電流(EBIC)

偵測元素:B-U(EDS)

偵測限制條件:0.1-1at%

深度解析度:0.5-3µm(EDS)

影像/mapping:

橫向解析度/偵測尺寸:15-45Å

  • 快速、高解析度影像
  • 快速識別存在的元素
  • 良好景深
  • 支持許多其他工具的多功能平臺
  • 樣品通常需要有真空相容性
  • 可能需要蝕刻的對比度
  • SEM可能會破壞樣品表面,影響後續分析
  • 因為尺寸限制可能會要求切割樣品
  • 最終解析度與樣品及其製備有很大的相關性
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