GDMS(輝光放電質譜)

輝光放電質譜分析法固體樣品使用GDMS(輝光放電質譜)測量分析,於Ar電漿輝光放電中將陰極固體樣品表面電離或濺射中性粒子,再與電子碰撞而被釋放。GDMS高靈敏度、容易校準、靈活性和穩定性地分析各種不同的樣品與基質,對於痕量元素分析來說是不錯的選擇。除了全元素測量之外,還有可能利用較高的靈敏性來測量和定量評估元素分布的深度。

EAG是GDMS分析服務的行業領導者,可以針對各種不同類型的固體、薄膜和塗層提供最佳的探測限制,以及確定準確的質量百分比。EAG在GDMS分析領域內深刻而廣泛的經驗以及對於分析方法研發的投入程度都是無人能敵的,EAG具有最大數量的GDMS儀器以及高素質的科學家,幫助客戶解決材料方面的問題。

EAG通常會使用GDMS分析來幫助客戶解決多種行業內的問題,包括研發、品質控制、過程監控和開發。EAG通過對個人的服務,使得客戶對分析結果以及潛在含義有了更為全方面的理解。

對於利用GDMS、IGA、ICP-OES或LA-ICP-MS分析進行痕量元素分析來說:

EAG(紐約)--樣品送件表(英文,pdf)
EAG SAS(法國)--樣品送件表(英文,pdf)
EAG SAS(法國)--樣品送件表(法國,pdf)

  • 高純度先進無機固體(金屬、合金、石墨、半導體、氧化物和陶瓷)的全元素測定
  • 薄膜和塗層的痕量與超痕量深度分布
  • 從少量樣品中鑑別未知元素(<?g)
  • 粉末和微粒的全元素特性

偵測訊號: 離子

偵測元素:全部元素週期表(穩定同位素的全測定,氫元素除外)

偵測限制條件:~μg/kg (ppbw)

典型的取樣面積:介於5-15mm(50-80mm2)之間

  • 整個元素週期表(穩定同位素的全測定,氫元素除外)
  • ~ppb (μg/kg) 到ppt (ng/kg)偵測極限
  • 最小的基質效應
  • 線性和簡單的校正
  • 分析陶瓷和其他絕緣體的能力
  • 利用高度靈敏性進行元素的深度分布
  • 樣品異質性
  • 揮發性的樣品
  • 不適用有機材料/聚合物
  • 濺射靶
  • 航太工業
  • 耐熔金屬和合金
  • 稀土金屬和金屬氧化物
  • 電子材料
  • 光電和發電材料
  • 高純度材料生產