XRR(X-射線反射率)

X-射線反射率鏡面XRR(X-射線反射率),為XRD的相關技術,是一種廣泛應用在分析薄膜和多層結構特性的工具。X-射線在非常小的繞射角內散射,可以得到低至幾十Ǻ內的薄膜電子密度分布特性X-射線反射率。利用模擬的反射率模式,可以對晶體或者非晶形薄膜以及多層的厚度、界面粗糙度和層密度進行高精確度的測定。不需要提前知道與薄膜光學屬性相關的知識或者假設條件,和光學橢圓儀有所不同。

主要應用

  •  確定薄膜和多層的厚度、界面粗糙度和密度

 

 

 

 

 

  • 高精度的薄膜厚度和密度測定
  • 測定薄膜或界面的粗糙度
  • 測定晶圓薄膜的均勻性
  • 測定低介電係數薄膜的孔密度和孔徑

偵測訊號:反射X-射線

偵測元素: 不會具體偵測元素,而是測定層的電子密度。再結合層成分的資訊,使層的厚度和密度得到精確的測定。

偵測限制條件: 最小層厚30-100Ǻ

深度解析度: ~1%的測定厚度

影像/mapping:

橫向解析度/偵測尺寸:~1cm

  • 全晶片分析(最大300mm)和不規則大尺寸樣品
  • 全晶圓映射
  • 導體和絕緣體的分析
  • 薄膜的光學屬性不要求進行精確的厚度測定
  • 最小或者沒有樣品製備要求
  • 所有分析的環境條件
  • 需要預期樣品基本結構的某些資訊(層的順序以及他們的概略成分),以提供準確的密度結果
  • 最大薄膜厚度~300nm
  • 化合物半導體
  • 資料存儲
  • 國防
  • 顯示器
  • 電子領域
  • 光子領域
  • 半導體
  • 光電太陽能
  • 電信