清潔度

根據所感興趣的表面與材料,來使用不同的測量方法去評估表面清潔度。另外,還可能會涉及到對使用不同的處理方式,或是暴露在不同環境的樣品比較。使用這種方法通常可以突顯出檢測樣品和控制樣品或標準品之間的區別。例如,非常靈敏的測量方法可以發現到因為沒有進行適當地沖洗而殘留的清潔化學品,靈敏度較低的測定方法則可能會測不到殘留物。

評估清潔度一般需要對於污染物的可能來源有一定程度上的理解:

  • 是否有感興趣的元素或者分子污染物?(嫌疑犯?)
  • 材料存在或不存在的確認?
  • 在意的元素是否必須要低於特定濃度?

測定非常乾淨的表面可能會要求偵測極限為ppm範圍的分析技術,例如全反射X-射線螢光分析(TXRF),只探測元素成分,或者飛行式二次離子質譜(TOF-SIMS),針對元素和分子污染物。通過表面的許多微粒來測定清潔度,對於表面成像和微粒計算來說,掃描式電子顯微鏡(SEM)是個不錯的選擇。

首要分析技術

其次分析技術