AFM/SPM(原子力顯微鏡)

原子力顯微鏡分析方法AFM(原子力顯微鏡),提供原子或近原子解析度的表面形貌圖像,能夠定量樣品的表面粗糙度到"Å"等級。除了提供表面圖像之外,AFM也可以提供形態的定量測量,如高度差和其他尺寸。另外,磁力顯微鏡(MFM)是AFM一種應用,能夠繪製樣品的磁域圖。

AFM分析方法應用的案例包括:

  • 評估晶片處理前後的差異(SiO2, GaAs, SiGe等)
  • 確定生物醫學設備的處理效果(例如電漿處理),如隱形眼鏡、導管和塗層支架
  • 檢查表面粗糙度對附著力的影響
  • 評估圖案晶圓的溝槽形狀與清潔度
  • 檢查形態是否是表面陰霾的來源

原子力顯微鏡分析方法

  • 提供三維表面形態影像,包括表面粗糙度、粒徑大小、高度差和間距
  • 其他樣品特性的成像,包括磁場、電容、摩擦力和相位
偵測訊號: 樣品表面形態

垂直解析度:0.1Å

影像/mapping:

橫向解析度/Probe 大小: 15-50Å
  • 可定量表面粗糙度
  • 全晶圓分析(最大300mm)
  • 高空間解析度
  • 導體或絕緣體皆可成像
  • 掃描範圍限制:橫向100µm (x,y),垂直5µm(z)
  • 對極其粗糙和形狀怪異的樣品在分析上有困難
  • 探針好壞可能會造成誤差
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